本发明公开一种用于金属制品的双面蚀刻方法，所述方法包括以下过程：在金属制品的上表面和下表面进行掩膜处理，所述上表面和下表面的掩膜层图案对应一致；先将掩膜后的金属制品上表面或下表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，然后将金属制品翻转，将金属制品的下表面或上表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，完成对金属制品的双面蚀刻；对双面蚀刻后的金属制品进行脱膜处理，除去掩膜层，并进行清洗、抛光后处理。本发明所述方法可在金属制品上加工出尺寸精度较好的微小通孔结果，佛山蚀刻，侧蚀量小，加工效率高，广州蚀刻，适合大规模生产加工的需求。
蚀刻技术是利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分，而达到蚀刻的目的，中山蚀刻，这种蚀刻方式也就是所谓的湿式蚀刻。因为湿式蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除，而化学反应本身不具方向性，蚀刻，因此湿式蚀刻过程为等向性，一般而言此方式不足以定义3微米以下的线宽，但对于3微米以上的线宽定义湿式蚀刻仍然为一可选择采用的技术。
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