化学或电化学抛光是常用的
抛光方法。
传统工艺经过改造也能放出异彩。
应用电解原理进行
1921
年
Bluml
开创了利用两种不同的电解液镀出金属
多层膜以来,各国研究者采用双槽法、液流法和单槽法等相继电镀出了
Cu
—
Bi
、
Cu
—
Ni
、
Ru
—
Co
、
Ni
—
NiP
、
Ag
—
Pd
等纳米级多层膜,厚街金属烛台蚀刻,为电化学工艺理论研究和镀层应用开辟了新
的途径。电镀工艺考察在实验
18
中进行。
di一个台阶(即zui先腐蚀加工的台阶hl)的层下切翻宽度Al应为:
A1平方+h2平方=hl平方
Al = F根号(h平方 -h2平方)
同理,第二个台阶的层下切削宽度为:
A2=F 根号(h2平方一h3平方)
A1=Fh3
从式中可以看出,最后一次的层下切削计算公式和例5方法一的计算方法是g 样的。保证多台阶腐蚀公差的关键,是要准确测量被腐蚀材料在某一腐蚀液中的jing确蚀刻速度及侧蚀率。这些参数仅靠现有资料介绍的数据去估算是不可取的,要自己亲自去进行试验,取得di一手资料才是最为可靠的。
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