喷漆除臭设备,重庆除臭设备,除臭设备厂(查看)

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    UV光解氧化除臭设备反应机理 :在波长范围170nm-184.9nm(704 kj/mol - 647 kj/mol)高能紫外线的照射作用下,一方面空气中的氧气被裂解,产生的氧原子和氧气分子了组合产生臭氧(见反应①、②);另...


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喷漆除臭设备,UV光解除臭设备厂,垃圾除臭设备,除臭设备

    UV光解氧化除臭设备反应机理 :在波长范围170nm-184.9nm(704 kj/mol - 647 kj/mol)高能紫外线的照射作用下,一方面空气中的氧气被裂解,产生的氧原子和氧气分子了组合产生臭氧(见反应①、②);另一方面将恶臭气体的化学键断裂,使之形成游离态的原子或基团(见反应③);同时产生的臭氧参与到反应过程中,使恶臭气体最终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物,如CO2、H2O、SO2、N2等(见反应④)。   注:

   1、恶臭物质能否被裂解,取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低,也就是光能量必须高于恶臭气体分子键键能。 2、裂解反应的时间极短(<0.01s),氧化反应(见反应④)的时间需2-3s。







  等离子光解一体机为等离子有机废气净化器和恶臭气体UV光解净化器两款设备的的优点集合而成,分为紫外线光解和等离子分解两个区,恶臭气体先经UV紫外线光解区再到等离子分解区,经多级净化后达标排出,对于各种恶臭气体能达到有效的净化效果。

1.UV紫外线光解区:

   利用定制制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,改变恶臭气体,如氨、三甲胺、、甲硫氢、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、苯乙烯、硫化物H2S、VOC类、苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。再分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧。因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。众所周知,臭氧对有机物具有极强的氧化作用,重庆除臭设备,对恶臭气体及其它刺激性异味有明显的清除效果。有机恶嗅气体首先通过本区后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,裂解恶臭气体分子键,破坏恶臭分子核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应。

2.等离子分解区:

采用了独特的吸附-分解-碳化工艺技术设计,无需再生处理原料,无需专人负责,不产生二次污染。采用脉冲高压高频等离子体电源和齿板放电装置,使其产生高强度、高浓度、高电能的活性自由基,在毫秒级的时间内,瞬间对经过UV紫外线光解区进入等离子分解区的气体内残留的有害废气分子进行氧化还原反应,将废气中的污染物降解成二氧化碳和水及易处理的物质。利用催化氧化剂的强氧化性和高吸附性,持续地对等离子体未处理尽的污染物和生成的物质进行催化氧化反应,使有害废气经多级净化后最终达标排放。


uv光解除臭设备技术原理简述:

  在波长范围 170nm-184.9nm(704 kj/mol - 647 kj/mol)高能紫外线的作用下,一方面空气中的氧气被裂解,然后组合产生臭氧;另一方面将恶臭气体的化学键断裂,使之形成游离态的原子或基团;同时产生的臭氧参与到反应过程中,UV光解除臭设备厂,使恶臭气体最终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物,如CO2、H2O、SO2、N2等,从而达到有效净化挥发性有机气体的效果。

  紫外光催化技术对于某些有机化合物的部分化学键键能高于所提供的UV光子能量,如甲醛的“C=O”键的键能为728kj/mol。目前我们所提供的UV光子的能量为 704kj/mol(正在研发742kj/mol和800kj/mol)。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下,会裂解生成游离态的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*与03反应生成CO2,喷漆除臭设备,一部分[C=O]*在经过与N2等惰性物质碰撞后失去能量,生成CO,臭氧量充足时可将部分CO氧化成CO2 。

  如果提供的UV紫外线波长为160nm(742kj/mol),则反应过程相对就更加简单一些:甲醛会被直接裂解成游离态的C*、H*,会被O3直接氧化成CO2和H2O。

  以上可见,不同波段的UV紫外线对于同一种物质的光解反应可以是不一样的,垃圾除臭设备,UV紫外线的波长越短,即UV光子能量越高,物质的光解反应就越容易,反之越难,甚至没有任何效果。


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