由于化学蒸气沉积法(CVD)的运用,人造金刚石薄膜的生产日益发展。这种金刚石薄膜具有良好的导热性、光学透明性、硬度、惰性和半导体特性,在光学和生物医学领域中有重要作用。但由于其极高的硬度和体积较小,要把金刚石薄膜加工为理想的形状较为困难,过去的种种加工方法,或者易使晶体本身产生凹痕,或者加工速度很慢,或者生产成本太高,而使其应用受到限制。近来美国报导了一种新方法,能快速、高质量和经济地加工和削磨金刚石,引起人们广泛重视。该法是用熔融的稀土金属铈或镧,去蚀刻金刚石薄膜表面,道窖蚀刻加工,
化学或电化学抛光是常用的
抛光方法。
科学技术总是在不断发展前进的,蚀刻加工,
传统工艺经过改造也能放出异彩。
应用电解原理进行
电镀的工艺已有较长历史,但是,自
1921
年
Bluml
开创了利用两种不同的电解液镀出金属
多层膜以来,各国研究者采用双槽法、液流法和单槽法等相继电镀出了
Cu
—
Bi
、
Cu
—
Ni
、
Ru
—
Co
、
Ni
—
NiP
、
Ag
—
Pd
等纳米级多层膜,为电化学工艺理论研究和镀层应用开辟了新
的途径。电镀工艺考察在实验
18
中进行。
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