通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要金属蚀刻区域的保护膜去除，在金属蚀刻时接触化学溶液，不锈钢蚀刻，达到溶解腐蚀的作用，博罗不锈钢蚀刻，形成凹凸或者镂空成型的效果。 最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工，惠阳不锈钢蚀刻，特别在半导体制程上，金属蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻工艺可以部分代替传统的机械冲压工艺，加工面积可由几平方毫米至一个平方米。加工材料的厚度为0.01～1毫米，加工精度可达微米级，可在 0.01～0.02毫米厚的金属箔上加工直径0.003～0.005毫米的小孔。这种工艺在国外称之为“微细加工”。一、基本工艺该工艺实际上是印刷照相 制版工艺的一个派生，工艺上有相似之处。主要工艺流程为:绘图→照相→曝光→蚀刻(化学式电蚀)。
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