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通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要金属蚀刻区域的保护膜去除,金属烛台蚀刻,在金属蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。  最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,厚街金属烛台蚀刻,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,谢岗金属烛台蚀刻,金属蚀刻更是不可或缺的技术。


虽然在例5中所讲述的方法是按侧蚀率的大小来计x每一个台阶的腐蚀尺寸,但如果用如图1一16所示的方法来进行腐蚀设计时,单用侧蚀率就谁于进行。在这里可先抛开例5所给定的侧蚀率,在实际生产中对于大多数情况的真泣系盈那接近于1,因而就可以用勾股定理来进行计算就会简单得多。利用勾股定理计算所得的结果再乘以侧蚀率F,就可以计算出jing确的层下腐蚀宽度。具有关资料介绍.使用这种方法在大多数情况下,这一计算结果所引起的误差不超过5%。

 


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