除了溶液的选用外，选择适用的屏蔽物质亦是十分重要的，它必须与待蚀刻材料表面有很好的附着性、并能承受蚀刻溶液的侵蚀且稳定而不变质。而光阻通常是一个很好的屏蔽材料，且由于其图案转印步骤简单，饰品蚀刻厂家，因此常被使用。但使用光阻作为屏蔽材料时也会发生边缘剥离或龟裂的情形。边缘剥离乃由于蚀刻溶液的侵蚀，造成光阻与基材间的黏着性变差所致。解决的方法则可使用黏着促进剂来增加光阻与基材间的黏着性，饰品蚀刻厂，如Hexamethyl-disilazane (HMDS)。龟裂则是因为光阻与基材间的应力差异太大，饰品蚀刻，减缓龟裂的方法可利用较具弹性的屏蔽材质来吸收两者间的应力差。
di一个台阶(即zui先腐蚀加工的台阶hl)的层下切翻宽度Al应为:
A1平方+h2平方=hl平方
Al = F根号(h平方 -h2平方)
同理，第二个台阶的层下切削宽度为:
A2＝F 根号(h2平方一h3平方)
第三个，饰品蚀刻报价，也是最后一个台阶的层下切削宽度为:
A1＝Fh3
从式中可以看出，最后一次的层下切削计算公式和例5方法一的计算方法是g 样的。保证多台阶腐蚀公差的关键，是要准确测量被腐蚀材料在某一腐蚀液中的jing确蚀刻速度及侧蚀率。这些参数仅靠现有资料介绍的数据去估算是不可取的，要自己亲自去进行试验，取得di一手资料才是最为可靠的。
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