捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 测量光刻胶的厚度
成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 捷扬光电 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。
测量JFD-2000 膜厚检测仪 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太准确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行准确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。
捷扬光电 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 捷扬光电JFD-2000膜厚检测仪 能通过准确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 自主研发的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。
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捷扬光电 提供 免费测试 - 一般1-2 天即可得到结果。
捷扬光电 JFD-2000膜厚检测仪原理
捷扬光电的JFD-2000，是一台非接触式膜厚检测仪，采用光学干涉的原理测量薄膜厚度。
仪器检测原理外部光路结构：
光从光源发出，经过光纤导到反射探头打出，聚焦在在样品上。薄膜上下表面都会产生反射光，如下图所示：
两种反射光由反射探头采集，并由另一根光纤导入到分光结构，进行光谱排列。测量出干涉条纹：测量谱图：通过光谱软件，将样品放置于检测位置，可以得到反射率谱线，如下图所示：
再经过软件内部处理，得到干涉条纹的极大值和极小值。得到极值后再通过厚度公式，即可算出膜层厚度。
