金属蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。金属蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
曝光法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→烘干→涂布→烘干→曝光→ 显影→蚀刻→脱膜→OK网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK
由于化学蒸气沉积法(CVD)的运用，蚀刻，人造金刚石薄膜的生产日益发展。这种金刚石薄膜具有良好的导热性、光学透明性、硬度、惰性和半导体特性，天河蚀刻，在光学和生物医学领域中有重要作用。但由于其极高的硬度和体积较小，要把金刚石薄膜加工为理想的形状较为困难，过去的种种加工方法，或者易使晶体本身产生凹痕，增城蚀刻，或者加工速度很慢，或者生产成本太高，而使其应用受到限制。近来美国报导了一种新方法，从化蚀刻，能快速、高质量和经济地加工和削磨金刚石，引起人们广泛重视。该法是用熔融的稀土金属铈或镧，去蚀刻金刚石薄膜表面，
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