uv光解除臭设备技术原理简述：
在波长范围 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫外线的作用下，净化设备，一方面空气中的氧气被裂解，废气臭气净化设备，然后组合产生臭氧；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使恶臭气体最终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。
紫外光催化技术对于某些有机化合物的部分化学键键能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”键的键能为728kj/mol。目前我们所提供的UV光子的能量为 704kj/mol（正在研发742kj/mol和800kj/mol）。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，食品厂净化设备，会裂解生成游离态的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*与03反应生成CO2，一部分[C=O]*在经过与N2等惰性物质碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足时可将部分CO氧化成CO2 。
如果提供的UV紫外线波长为160nm（742kj/mol），则反应过程相对就更加简单一些：甲醛会被直接裂解成游离态的C*、H*，异味净化设备，会被O3直接氧化成CO2和H2O。
以上可见，不同波段的UV紫外线对于同一种物质的光解反应可以是不一样的，UV紫外线的波长越短，即UV光子能量越高，物质的光解反应就越容易，反之越难，甚至没有任何效果。
有机恶臭气体在风机的作用下UV光解除臭设备后，UV净化设备运用高能UV紫外线光束、臭氧O3及纳米光催化TiO2等技术组合起来对废气进行协同分解氧化反应，使废气降解转化成无害无味化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出，经过处理后有的机废气排远远超过国家排放标准。 UV光解除臭设备用于喷涂厂、喷涂厂、炼油厂、橡胶厂、塑料厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等恶臭气体、工业有机废气的净化处理，是目前投资运营成本低、维护方便、净化效果好的工业除臭设备。
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