捷扬光电 JFD-2000 非接触膜厚检测仪 简介
捷扬光电JFD-2000光学膜厚测量仪，测量膜层厚度从1nm到3.5mm。利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到2500nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。
捷扬光电 JFD-2000膜厚检测仪原理
捷扬光电的JFD-2000，是一台非接触式膜厚检测仪，采用光学干涉的原理测量薄膜厚度。
仪器检测原理外部光路结构：
光从光源发出，经过光纤导到反射探头打出，聚焦在在样品上。薄膜上下表面都会产生反射光，如下图所示：
两种反射光由反射探头采集，并由另一根光纤导入到分光结构，进行光谱排列。测量出干涉条纹：测量谱图：通过光谱软件，将样品放置于检测位置，可以得到反射率谱线，如下图所示：
再经过软件内部处理，得到干涉条纹的极大值和极小值。得到极值后再通过厚度公式，即可算出膜层厚度。
