捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 测量非晶硅的厚度
硅元素以非晶和晶体两种形式存在, 在两级之间是部分结晶硅。部分结晶硅又被叫做多晶硅。
非晶硅和多晶硅的光学常数(n和k)对不同沉积条件是独特的，必须有准确的厚度测量。 测量厚度时还必须考虑粗糙度和硅薄膜结晶可能的风化。
捷扬光电的JFD-2000提供的复杂的测量程序同时测量和输出每个要求的硅薄膜参数， 并且“一键”出结果。
多晶硅被广泛用于以硅为基础的电子设备中。这些设备的效率取决于薄膜的光学和结构特性。随着沉积和退火条件的改变，这些特性随之改变，所以准确地测量这些参数非常重要。监控晶圆硅基底和多晶硅之间，加入二氧化硅层，以增加光学对比，其薄膜厚度和光学特性均可测得。JFD-2000可以很容易地测量多晶硅薄膜的厚度和光学常数，以及二氧化硅夹层厚度。
捷扬光电 JFD-2000膜厚检测仪 使用说明
捷扬光电出品的JFD-2000是一款非接触式膜厚检测仪，操作简单.
具体操作如下：
1.首先连接电源，打开光源。
2.使用USB线连接仪器主机与电脑。
3.打开软件，确认软件与仪器主机正常连接（如左下角显示未连接光谱仪，则在设备管理器里重新连接仪器）。
4.放入样品，升降探头以调节焦点，调节至能量在5000左右（如果能量太高达到饱和，则调小积分时间，能量太弱则调大积分时间）。
5.关闭光源进行存暗。
6.打开光源放入基底材料存参考。
7.放入样品进行膜厚检测。
