有机氟化物（HCFC、HFO、HFE、PFC)替代CFC-11 3的氟系清洗剂主要有HCFC（含氢氟氯化碳）、HFC（含氢碳氟化物）、HFE（氢氟醚）、PFC（全氟化碳）等。其中HFC，HFE，PFC本身不具有清洗力，清洗剂，需要和其它化合物组合后才能使用。该类清洗剂具有与CFC-113接近的清洗性能，稳定。低毒。不燃。安全可靠，但是通常价格昂贵。HCFC对臭氧层有一定的影响，大量使用的有HCFC-141B、HCFC-225。属于过渡性替代品，最终还要被禁用；HFC和HFE类清洗剂过于稳定。在大气中的寿命高达数千年甚至几万年。是非常厉害的温室气体。在<；京都议定书>；正式生效以后，可能也要被限制使用。
水基型水是最重要的清洗剂，有着其它任何清洗剂无法替代的作用和地位。普通的水很容易从自然界中得到，水有很强的溶解力和分散力。但是水的表面张力大，在使用中需要添加表面活性剂，东莞lcd清洗剂，以减小表面张力，东莞mc3清洗剂，增加表面湿润性。在一般工业清洗中，东莞pet清洗剂，酸，碱和水的配合比较常见，有些金属用水洗要加入防锈剂；在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了，还有一些行业对细菌含量要求很严。
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